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沈陽科友真空技術有限公司公告
脈沖激光沉積設備

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L-MBE450A/B激光分子束外延設備

2017-03-06 點擊量:

1. 由脈沖激光做濺射源,將預外延材料原子濺射出來在襯底外延沉積得到單晶薄膜,RHEED電子槍做原位監測
2. 可放多塊不同尺寸靶材, 靶臺可公自轉,靶基距連續可調
3. 樣品臺襯底可自轉,可加熱